電子線描画装置 CABL-AP50S/RD(クレステック製)
描画方式:ベクタースキャン方式またはラスタースキャン方式
加速電圧:50kV(最小ビーム径2nm)
研究設備
電子線描画装置 CABL-9200TFTN(クレステック製)
描画方式:ベクタースキャン方式またはラスタースキャン方式
加速電圧:50kV(最小ビーム径2nm)
マスクアライナ MA-20(ミカサ製)
セミオートダイシング装置 AD20T(東京精密製)
対向型2軸スピンドル搭載
ステップカットによる高品質加工、1パスフルカットによる生産性重視加工の両加工モード
反応性DCスパッタリング装置 SPS-208CW(昭和真空製)
2元ターゲット
反応性DCマグネトロンスパッタリング
10トレー/1カセット
カセットエレベータ+真空ロボット+基板反転機構,Nb2O5,SiO2多層積層が可能,ロードロック方式
3元マグネトロンRFスパッタリング装置 CFS-4EP-LL(芝浦メカトロニクス製)
3元(HfO2,SiO2,Ta2O5/SiO2混合)ターゲット
RFマグネトロンスパッタリング
ロードロック方式
3インチRFスパッタ
RFスパッタSPF-210H
3元RFマグネトロンスパッタ SPF-332(アネルバ製)
抵抗加熱蒸着装置
抵抗加熱蒸着装置
電子線蒸着装置
スピンコータ
スピンコータ
ドラフター
オーブン
ホットプレート
プラズマリアクタ
レーザー加工機 FABOOL Laser CO2
レーザー加工機 FABOOL Laser mini(3.5W)
ランプアニール
酸化炉
貼り合わせ装置
真空注入装置
ラビングローラー
イオンコータ
電子線描画装置 S-3200H+東京テクノロジーBeamDraw
触針式段差計
触針式段差計
電子顕微鏡 S-4700(HITACHI製)
測定系
光スペクトラムアナライザー
光スペクトラムアナライザー
２次元複屈折評価システム WPA-micro(photonic lattice製)
ASE光源
可変波長レーザー TSL-510(Santec製)TSL-210(Santec製)
光パワーメータML-9001A(アンリツ製)
光パワーメータML910B
計算機電磁界シミュレーター rsoft
集束イオンビーム加工装置FIB(JEOL製)
基板加工機
誤り率測定器 BERTWAVE(アンリツ製)
レーザー顕微鏡
XRD
